Heute hatten wir das Vergnügen, Prof. Dr. Shih-Cheng Hu (National Taipei University of Technology) zu einem inspirierenden EIZ Research Seminar begrüßen zu dürfen zum Thema:
»Micro Contamination Control for Advanced Semiconductor Manufacturing Processes: Focusing on Automatic Material Handling Systems (AMHS)«
Prof. Hu teilte spannende Einblicke in die Herausforderungen der Kontaminationskontrolle in der Halbleiterfertigung, insbesondere vor dem Hintergrund immer weiter schrumpfender Technologieknoten im Nanometerbereich. Zu den behandelten Themen gehörten:
Kontrolle von Sauerstoff, Feuchtigkeit und luftgetragener molekularer Kontamination (AMC) beim Wafer-Handling
Anwendungen der Strömungsdynamik im Mikro- und Nano-Kontaminationsmanagement
Erfolgreiche, industrienahe Lösungsansätze aus Taiwans Halbleiterindustrie
Zukünftige Herausforderungen und Innovationen für nächste Technologiegenerationen
Das Seminar bot eine hervorragende Gelegenheit zu erleben, wie hochaktuelle Forschung auf industrielle Anwendungen trifft und damit die Zukunft der Mikroelektronik- und Reinraumtechnologien vorantreibt.
Ein herzliches Dankeschön an Prof. Hu für das Teilen seiner Expertise sowie an alle Teilnehmenden des heutigen EIZ Research Seminars!
Fotos: Annabel Vukosav
